《電子技術(shù)應(yīng)用》
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光學(xué)成像新突破 科學(xué)家實(shí)現(xiàn)1nm分辨率顯微技術(shù)

2025-07-29
來源:芯智訊
關(guān)鍵詞: 光學(xué)成像 1nm 顯微鏡

7月28日消息,德國(guó)馬克斯·普朗克學(xué)會(huì)Fritz Haber研究所的研究人員及其在日本分子科學(xué)研究所/SOKENDAI和西班牙CIC nanoGUNE的國(guó)際合作者開發(fā)了一項(xiàng)突破性的顯微技術(shù),能夠以1納米的空間分辨率觀察光與物質(zhì)的相互作用,即可以在單個(gè)原子的尺度上可視化光學(xué)反應(yīng),重新定義了光學(xué)成像的極限,這一成就被稱為“超低振幅震蕩s-SNOM”。

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傳統(tǒng)的s-SNOM方法使用激光照射的探針尖端掃描表面,通??蓪?shí)現(xiàn)10至100納米的分辨率。然而,這對(duì)于原子尺度成像來說是不夠的。通過將s-SNOM與非接觸式原子力顯微鏡(nc-AFM)集成,并在可見激光照射下使用銀尖端,研究人員創(chuàng)建了一個(gè)限制在微小體積內(nèi)的等離子體腔(一種特殊的光場(chǎng))。這允許在埃尺度上進(jìn)行詳細(xì)的光學(xué)對(duì)比。

全新的“超低振幅震蕩s-SNOM”技術(shù)將分辨率提升至1nm,讓科學(xué)家能夠觀察到原子缺陷、分子及奈米結(jié)構(gòu)等微小特征,這對(duì)于材料科學(xué)、電子學(xué)及醫(yī)療設(shè)備的設(shè)計(jì)具有重要意義。

這項(xiàng)技術(shù)的發(fā)展不僅突破了以往超高解析顯微鏡的限制,還為未來的研究和技術(shù)發(fā)展開啟新的可能性??茖W(xué)家們相信,這種精確的成像能力將對(duì)材料的行為和性能產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響,并推動(dòng)新材料的設(shè)計(jì)與應(yīng)用。該研究成果上月已經(jīng)發(fā)表在了《科學(xué)進(jìn)展》(Science Advances)期刊上。


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