9 月 24 日消息，韓媒 etnews 當(dāng)?shù)貢r間今日報(bào)道稱，SK 海力士計(jì)劃在未來兩年內(nèi)新購置約 20 臺 ASML 的 EUV 光刻系統(tǒng)?？紤]到 SK 海力士目前持有約 20 臺用于研發(fā)和生產(chǎn)的 EUV 機(jī)臺，這意味著這家存儲巨頭對此類設(shè)備的保有規(guī)模將在兩年內(nèi)翻倍。
在 SK 海力士的兩大業(yè)務(wù)領(lǐng)域中，內(nèi)存端的 EUV 光刻工藝早已隨著 2021 年的 1a nm DRAM 實(shí)現(xiàn)商業(yè)化，EUV 的應(yīng)用規(guī)模也在隨著內(nèi)存世代演進(jìn)穩(wěn)步提升。
而由于 AI 發(fā)展對企業(yè)級高性能存儲尤其是 HBM 需求的提升，SK 海力士需要更多的 EUV 設(shè)備來擴(kuò)大先進(jìn) DRAM 內(nèi)存的生產(chǎn)規(guī)模。
除目前主要應(yīng)用的 Low-NA EUV 光刻機(jī)，SK 海力士本月早些時候還在存儲器業(yè)界引進(jìn)了首臺量產(chǎn)型 High-NA EUV 光刻機(jī)，即 ASML 的 TWINSCAN EXE:5200B，部署在韓國利川 M16 生產(chǎn)基地中。
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