3月31日消息，據(jù)臺媒《聯(lián)合報》報道，臺積電前工員工、TEL工程師陳力銘與臺積電在職工程師吳秉駿、戈一平合謀竊取臺積電2nm關(guān)鍵技術(shù)一案于3月26日審理結(jié)束，最終判決結(jié)果將于4月27日宣判。

同時，針對陳力銘2024年涉嫌指使前臺積電工程師陳韋杰，以手機偷拍臺積電機密資料一案，裁定陳力銘、陳韋杰二人自4月1日及8日起延廠羈押兩個月。

起訴指出，陳力銘曾任臺積電Fab 12晶圓廠良率部門工程師，離職后進(jìn)入臺積電的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商TEL行銷部門。

2023年至去年上半年，陳力銘為替TEL公司爭取成為臺積電先進(jìn)制程更多站點設(shè)備供應(yīng)商，多次要求當(dāng)時在職的臺積電工程師吳秉駿、戈一平提供臺積電關(guān)鍵技術(shù)與營業(yè)秘密，拍攝重制后由TEL公司檢討改善刻蝕設(shè)備表現(xiàn)，以爭取臺積電2nm制程刻蝕站點供應(yīng)量產(chǎn)機臺資格。

臺積電發(fā)覺異常后啟動內(nèi)部調(diào)查，懷疑有在職與離職員工非法取得關(guān)鍵技術(shù)與營業(yè)秘密，于2025年7月8日提出起訴。中國臺灣于2025年7月25至28日指揮調(diào)查局發(fā)動搜索、約談，審訊后將陳力銘、吳秉駿、戈一平申請羈押禁止會見獲準(zhǔn)。

2025年8月27日，中國臺灣依照“營業(yè)秘密法”之意圖域外使用而竊取營業(yè)秘密罪、竊取營業(yè)秘密罪、“安全法”之地區(qū)核心關(guān)鍵技術(shù)營業(yè)秘密之域外使用罪起訴3人，并求處陳力銘應(yīng)執(zhí)行有期有期徒刑14年、吳秉駿應(yīng)執(zhí)行9年有期徒刑、戈一平7年有期徒刑。

隨后，檢方后續(xù)又查出，陳力銘于2024年5月涉嫌指使前臺積電工程師陳韋杰，以手機偷拍數(shù)十張涉及2nm制程原料與設(shè)備技術(shù)的機密資料。事件曝光后，TEL盧姓行銷經(jīng)理疑為掩蓋證據(jù)，刪除云端硬盤內(nèi)的臺積電機密資料。

檢方依照“安全法”及“毀滅刑事證據(jù)”等罪名，追加起訴陳力銘、陳韋杰、TEL及TEL盧姓經(jīng)理，并分別要求對陳力銘判刑7年、對陳韋杰判刑8年8月、對盧姓經(jīng)理判刑1年，對TEL則要求處罰金新臺幣2500萬元。

在案件偵查終結(jié)后，檢方于2026年1月提起第二次公訴；陳韋杰移審后，也遭裁定續(xù)押。3月26日午辯論終結(jié)，將在今年4月27日上午11時宣判，同時命吳秉駿、戈一平于宣判期日到庭聆聽判決。

此外，檢方考慮到，被告陳韋杰否認(rèn)違反“安全法”的罪行，且其在所涉犯罪情節(jié)、手段等方面的供述前后不一，對犯罪細(xì)節(jié)避重就輕。因此，針對陳韋杰的共同犯罪情節(jié)調(diào)查，仍有必要將其相關(guān)電子記錄與共犯陳力銘及其他證人的供述內(nèi)容進(jìn)行比對核實。如果陳力銘、陳韋杰二人仍有機會相互串供或銷毀證據(jù)，極有可能導(dǎo)致案情陷入混亂不清的局面。原有的羈押理由目前依然存在，故裁定陳力銘、陳韋杰分別自今年4月1日及4月8日起，延長羈押兩個月，并禁止接見和通信。