工業(yè)自動化最新文章 這家中國企業(yè)厲害了！重新定義安防成像新標(biāo)準(zhǔn)！ 豪威科技曾是納斯達(dá)克的上市企業(yè)。2016年，中國財團(tuán)耗資19億美元，將其私有化，并成立了北京豪威科技全資子公司。公司主要是從事設(shè)計、開發(fā)和銷售高性能、高集成度和高成本效益的半導(dǎo)體圖像傳感器設(shè)備。最近，國內(nèi)的上市公司韋爾科技正在對其發(fā)起一個收購，這主要看中的是他們在圖像傳感器方面的影響力。 發(fā)表于：11/1/2018 魏德米勒：以全方位聯(lián)接服務(wù)，為用戶創(chuàng)造價值 魏德米勒亞太區(qū)電器柜產(chǎn)品事業(yè)部總監(jiān)Lars Kosubek先生表示，設(shè)計的重點(diǎn)不是單一部件，而是著眼于從機(jī)柜規(guī)劃到操作的整個過程，希望能夠為客戶提供更多便利，節(jié)省空間、時間和成本。每一個客戶都會有不同的詳細(xì)要求，需要將客戶的這些要求與魏德米勒的產(chǎn)品建立便捷的對應(yīng)關(guān)系，以便更好地滿足這些需求。 發(fā)表于：11/1/2018 最高4800萬像素！三星發(fā)布兩款新的ISOCELL CMOS傳感器 三星電子今天發(fā)布兩款新的ISOCELL CMOS傳感器，分別是4800萬像素的Bright GM1和3200萬像素的Bright GD1。GM1和GD1的單個像素尺寸為0.8μm，定位是在小模組下提供高像素解析力，同時也方便手機(jī)廠商們部署多攝像頭方案。 發(fā)表于：11/1/2018 華大借路積塔吞下先進(jìn)半導(dǎo)體 積塔半導(dǎo)體及先進(jìn)半導(dǎo)體聯(lián)合宣布，雙方于2018年10月30日簽訂合并協(xié)議。積塔半導(dǎo)體將吸收合并先進(jìn)半導(dǎo)體，并將以超20億元注銷先進(jìn)半導(dǎo)體的股票。 發(fā)表于：11/1/2018 格芯全資子公司Avera Semi正式成立 8月份，格芯宣布將擱置7納米 FinFET項目，并調(diào)整相應(yīng)研發(fā)團(tuán)隊來支持強(qiáng)化的產(chǎn)品組合方案。同時，格芯為了更好地施展格芯在ASIC設(shè)計和IP方面的強(qiáng)大背景和重大投資，將建立獨(dú)立于晶圓代工業(yè)務(wù)外的ASIC業(yè)務(wù)全資子公司。 發(fā)表于：11/1/2018 芯片納米制程競爭激烈:臺積電吞晶圓代工六成市場 芯片行業(yè)對于數(shù)字的高度敏感，越來越成為晶圓代工廠商以及芯片廠商的“緊箍咒”。對于處于金字塔尖的巨頭們來說，不無例外。 發(fā)表于：11/1/2018 一圖看懂什么是納米制程 所謂的納米制程對半導(dǎo)體業(yè)而言到底多重要，又與摩爾定律、FinFET 及 EUV 等常見關(guān)鍵字有什么關(guān)聯(lián)呢？ 本文帶您一探中國臺灣地區(qū)半導(dǎo)體發(fā)展以及制程技術(shù)。 發(fā)表于：11/1/2018 臺積電宣布其7納米制程進(jìn)入量產(chǎn) 并透露了5納米節(jié)點(diǎn)的首個時間表 持續(xù)同時朝多面向快速進(jìn)展的晶圓代工大廠臺積電（TSMC），于美國硅谷舉行的年度技術(shù)研討會上宣布其7納米制程進(jìn)入量產(chǎn)，并將有一個采用極紫外光微影（EUV）的版本于明年初量產(chǎn)；此物該公司也透露了5納米節(jié)點(diǎn)的首個時間表，以及數(shù)種新的封裝技術(shù)選項。 發(fā)表于：11/1/2018 臺積電5nm節(jié)點(diǎn)投資250億美元，而3nm工藝也確定了 在下一代制程工藝上，有實力有財力走得更遠(yuǎn)的半導(dǎo)體公司沒幾家了，聯(lián)電已經(jīng)放棄了12nm以下的先進(jìn)工藝， 英特爾 還掙扎在10nm節(jié)點(diǎn)，目前公布5nm及3nm計劃的只有臺積電和 三星 兩家，其中臺積電5nm節(jié)點(diǎn)投資250億美元，而3nm工藝也確定了投資計劃了，投資規(guī)模6000億新臺幣，目前臺南園區(qū)的3nm工廠已經(jīng)通過了環(huán)評初審，預(yù)計最快2022年底投產(chǎn)。 發(fā)表于：11/1/2018 我國將攻關(guān)5nm及以下工藝，2030年集成電路達(dá)到國際先進(jìn)水平 目前國內(nèi)正把半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)當(dāng)成重點(diǎn)來抓，正在推進(jìn)一系列先進(jìn)技術(shù)研發(fā)，比如攻關(guān)5nm及以下工藝技術(shù)，爭取2030年集成電路達(dá)到國際先進(jìn)水平。 發(fā)表于：11/1/2018 三星宣布5nm、4nm、3nm工藝！全新晶體管架構(gòu) 這兩年，三星電子、臺積電在半導(dǎo)體工藝上一路狂奔，雖然有技術(shù)之爭但把曾經(jīng)的領(lǐng)導(dǎo)者Intel遠(yuǎn)遠(yuǎn)甩在身后已經(jīng)是不爭的事實。 發(fā)表于：11/1/2018 EUV微影技術(shù)7nm制程正在接近 5nm制程還比較遙遠(yuǎn) EUV被認(rèn)為是推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)制造更小芯片的重要里程碑，但是根據(jù)目前的EUV微影技術(shù)發(fā)展進(jìn)程來看，10奈米（nm）和7nm制程節(jié)點(diǎn)已經(jīng)準(zhǔn)備就緒，就是5nm仍存在很大的挑戰(zhàn)。 發(fā)表于：11/1/2018 7nm、5nm的技術(shù)研發(fā)將讓芯片成本超2億美元 Q3臨近，各家公司的財報也是悲喜兩重天，而全球最大的光刻機(jī)公司荷蘭ASML公司保持開掛態(tài)勢，當(dāng)季營收27.8億歐元，凈利潤6.8億歐元，同比增長13.4%，出貨了5臺EUV光刻機(jī)。據(jù)悉，ASML預(yù)計全年出貨18臺，明年將增長到30臺，為何光刻機(jī)的生意如此“紅火”？ 發(fā)表于：11/1/2018 5nm技術(shù)指日可待 EUV技術(shù)有重磅突破 全球一號代工廠臺積電宣布了有關(guān)極紫外光刻(EUV)技術(shù)的兩項重磅突破，一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶芯片的流片工作，二是5nm工藝將在2019年4月開始試產(chǎn)。今年4月開始，臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產(chǎn)，蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或?qū)褂盟圃?，但仍在使用傳統(tǒng)的深紫外光刻(DUV)技術(shù)。 發(fā)表于：11/1/2018 5nm設(shè)計的新進(jìn)展 28nm之后，每個新節(jié)點(diǎn)的進(jìn)展都需要設(shè)計方與代工廠之間日益緊密的合作，他們正在開發(fā)新工藝和規(guī)則平臺；還需要與EDA和IP供應(yīng)商之間日益緊密的合作，他們正在添加工具、方法和預(yù)先開發(fā)的功能來完成所有這些工作。但是，5nm工藝增加了一些新的變化，包括在更關(guān)鍵的層上加入EUV光刻，以及更多的物理效應(yīng)和電氣效應(yīng)，這些效應(yīng)可能影響信號完整性、產(chǎn)量，以及制造后的老化和可靠性等各方面。 發(fā)表于：11/1/2018 ?…545546547548549550551552553554…?
