4月14日消息，Intel前任CEO帕特·基辛格已經找到了新工作！本人親自宣布，已經加盟xLight擔任執(zhí)行董事長。

xLight是一家半導體行業(yè)創(chuàng)業(yè)公司，主要業(yè)務室面向EUV極紫外光刻機，開發(fā)基于直線電子加速器的自由電子激光(FEL)技術光源系統(tǒng)，可顯著降低成本。

目前的ASML EUV光刻機使用的是激光等離子體EUV光源(LPP)，依賴超高功率的高能激光脈沖，因此整個系統(tǒng)極為龐大、復雜，而產生的EUV光源功率有限，這也是其成本、價格高昂的核心原因，單價超過1.5億美元。

因此，美國、中國、日本等都在積極研究替代方案，FEL自由電子激光器就是廣為看好的EUV光源，包括振蕩器、自放大自發(fā)輻射兩大技術路線。

它可以產生超過10kW功率的EVU光源功率，可同時滿足10臺光刻機的需要，而且不會產生錫滴碎片而污染環(huán)境。

其實，ASML早在十年前就考慮過FEL EUV光源路線，但最終認為風險偏高，而走向了LPP EUV光源。

有關研究顯示，10kW功率的FEL EUV光源的建設成本約為4億美元，每年運營成本4000萬美元。

相比之下，250W功率的LPP EUV光源的建設成本約為2000萬美元，每年運營成本1500萬美元。

算下來，EFL路線的建設成本只有LPP路線的1/2，運營成本更是1/15，綜合成本約為1/3。

基辛格加盟的xLight公司，正在研發(fā)基于ERL(能量回收直線加速器)的FEL EUV光源系統(tǒng)，可提供1000W的功率，四倍于ASML，從而將單塊晶圓光刻成本降低約50％，而且單個光源系統(tǒng)就能支持20臺光刻機，壽命也長達30年。

xLight FEL EUV光源系統(tǒng)的另一個好處，就是兼容現有的ASML EUV光刻機，可以直接整合，預計2028年可接入ASML光刻機，并開始生產晶圓。

xLight公司規(guī)模不大，但是團隊在光刻和加速器領域擁有豐富經驗，包括來自斯坦福直線加速器等的資深研究人士，首席科學家Gennady Stupakov博士曾在去年拿到IEEE核能和等離子體科學學會粒子加速器科學技術獎。