9月3日消息，SK海力士今日宣布，已將業(yè)界（指存儲(chǔ)行業(yè)）首款量產(chǎn)型高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)（High NA EUV）引進(jìn)韓國(guó)利川M16工廠，并舉行了設(shè)備入廠慶祝儀式。
High NA EUV 擁有比當(dāng)前 EUV 更高的數(shù)值孔徑（NA），可大幅提升分辨率，能夠繪制當(dāng)前最微細(xì)的電路圖案，預(yù)計(jì)將在縮小線寬和提升集成度方面發(fā)揮關(guān)鍵作用。
注：數(shù)值孔徑（Numerical Aperture）是用來衡量透鏡匯聚光線能力的數(shù)值。NA 值越大，電路圖案繪制的精密度越高。電路圖案制作越精密，每塊晶圓上可生產(chǎn)的芯片數(shù)量就越多，同時(shí)也能有效提高能效與性能。
據(jù)介紹，此次引進(jìn)的設(shè)備為荷蘭 ASML 公司推出的 TWINSCAN EXE:5200B，它是首款量產(chǎn)型 High-NA EUV 設(shè)備，EUV 光波長(zhǎng) 13.5nm，分辨率達(dá) 8nm。
與現(xiàn)有的 EUV 設(shè)備（NA 0.33）相比，其光學(xué)性能（NA 0.55）提升了 40%，這一改進(jìn)使其能夠制作出精密度高達(dá) 1.7 倍的電路圖案，并將集成度提升 2.9 倍。
SK海力士表示，該系統(tǒng)將加速下一代存儲(chǔ)器產(chǎn)品的開發(fā)。
“我們預(yù)計(jì)，關(guān)鍵基礎(chǔ)設(shè)施的增加將把我們一直追求的技術(shù)愿景變?yōu)楝F(xiàn)實(shí)，”SK海力士研發(fā)負(fù)責(zé)人Cha Seon-yong說。
他表示：“我們的目標(biāo)是，利用快速發(fā)展的人工智能（AI）和下一代計(jì)算市場(chǎng)所需的尖端技術(shù)，加強(qiáng)在人工智能（AI）內(nèi)存領(lǐng)域的領(lǐng)先地位?！?/p>
