9月25日消息，據報道，Intel正在加碼采購ASML的High-NA EUV光刻機，計劃購買兩臺相關設備，這一數量較之前計劃的單臺設備翻了一番。
ASML的High-NA EUV光刻機不僅價格高昂，更能夠實現更高的分辨率和更精細的芯片制造關鍵，是未來高端芯片制造的關鍵。
目前，全球僅有少數幾家公司能夠獲得ASML的High-NA EUV設備，包括臺積電、三星、SK海力士和Intel。
Intel的14A工藝計劃引入高數值孔徑（High-NA）光刻技術，這將是Intel代工服務（IFS）部門的重大里程碑。
14A工藝的成功與否對Intel的未來發(fā)展至關重要，因為如果該工藝無法獲得客戶的廣泛采用，Intel可能會放棄對高端芯片制造節(jié)點的追求。因此，14A工藝可以說是Intel在高端芯片制造領域的“背水一戰(zhàn)”。
據估算，ASML的單臺High-NA EUV光刻機價格約為3.7億美元，意味著Intel僅在光刻設備上就可能花費10億至20億美元。
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