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消息称伊朗冲突致溶剂短缺 扰乱日本光刻胶供应链

2026-04-24
來源:IT之家
關(guān)鍵詞: 半导体材料 光刻胶 光刻材料

4 月 23 日消息,據(jù) THE ELEC 報(bào)道,伊朗沖突引發(fā)的連鎖反應(yīng),正逐漸成為半導(dǎo)體材料供應(yīng)鏈的新沖突引爆點(diǎn)。

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受關(guān)鍵溶劑短缺影響,日本光刻膠及其他光刻材料的生產(chǎn)正被擾亂。鑒于日本在光刻工藝材料領(lǐng)域占據(jù)絕對主導(dǎo)份額,市場擔(dān)憂該影響或?qū)⑦M(jìn)一步蔓延至韓國芯片制造業(yè)。

據(jù)多位業(yè)內(nèi)消息人士 4 月 22 日透露,日本多家主流光刻材料供應(yīng)商已通過其韓國子公司,向三星電子、SK 海力士等半導(dǎo)體客戶告知原材料采購受阻問題,或正準(zhǔn)備下發(fā)相關(guān)通知。有消息稱,部分日本企業(yè)已于 4 月 21 日完成內(nèi)部通報(bào),計(jì)劃在內(nèi)部會議結(jié)束后,于 4 月 23 日正式向韓國合作客戶說明此次供應(yīng)問題。

據(jù)IT之家了解,本次短缺的核心材料為丙二醇甲醚(PGME)與丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA),二者是電子材料領(lǐng)域應(yīng)用廣泛的溶劑。溶劑指可溶解其他物質(zhì)的液態(tài)或氣態(tài)介質(zhì)。

采用 PGME 與 PGMEA 生產(chǎn)的半導(dǎo)體材料涵蓋光刻膠、稀釋劑、底部抗反射涂層、旋涂硬掩膜,以及高帶寬存儲器所用臨時(shí)鍵合膠,基本覆蓋絕大部分光刻制程材料。一位業(yè)內(nèi)人士將當(dāng)前局面比喻為:備好速溶咖啡,卻沒有沖泡的清水。

向三星電子、SK 海力士供應(yīng)此類材料的日本企業(yè)包括:信越化學(xué)、東京應(yīng)化、JSR 株式會社、富士膠片以及日產(chǎn)化學(xué)。

此次溶劑短缺的根源,是伊朗沖突導(dǎo)致石腦油供應(yīng)中斷。日本超四成的石腦油進(jìn)口依賴中東地區(qū)。今年 3 月初,霍爾木茲海峽運(yùn)輸通道近乎受阻,中東石腦油供應(yīng)隨即中斷。石腦油是原油煉制產(chǎn)出的輕質(zhì)油料,也是生產(chǎn)丙烯、乙烯等石化中間體的核心原料。

受此影響,日本 12 家石腦油裂解工廠中,已有 6 家減產(chǎn)。丙烯供應(yīng)量下滑,進(jìn)而導(dǎo)致環(huán)氧丙烷產(chǎn)能收縮,最終造成以環(huán)氧丙烷為原料的 PGME、PGMEA 產(chǎn)量不足。日本石腦油現(xiàn)貨價(jià)格從供應(yīng)危機(jī)前的每噸約 600 美元,暴漲至 4 月初的每噸 1190 美元,漲幅約 92%。

日本半導(dǎo)體光刻材料的原料大多依托本土自給。大賽璐實(shí)現(xiàn)了從環(huán)氧丙烷到 PGMEA 的一體化生產(chǎn)流程;東亞合成則依托陶氏提供的原料精制生產(chǎn) PGMEA。這些溶劑成品會供應(yīng)給 JSR、東京應(yīng)化、信越化學(xué)、富士膠片等本土廠商,用于生產(chǎn)光刻膠等成品材料,再出口至韓國。

業(yè)內(nèi)人士指出,日本長期堅(jiān)持原料本土化采購本是供應(yīng)鏈優(yōu)勢,但一旦單一上游原料出現(xiàn)斷供,整條產(chǎn)業(yè)鏈會同步受到?jīng)_擊。

目前,日本光刻材料廠商計(jì)劃考慮從韓國或中國采購 PGME、PGMEA。但最大難題在于制程變更報(bào)備流程:原材料更換后,需通過三星電子、SK 海力士等客戶的重新資質(zhì)認(rèn)證,常規(guī)認(rèn)證周期約一年,先進(jìn)制程芯片的認(rèn)證耗時(shí)會更久。

另有業(yè)內(nèi)人士表示,盡管稀釋劑、旋涂硬掩膜已實(shí)現(xiàn)部分本土化替代,但光刻膠、底部抗反射涂層若遭遇日本斷供,仍可能直接導(dǎo)致半導(dǎo)體產(chǎn)線停產(chǎn)。若原料采購危機(jī)持續(xù)加劇,各大企業(yè)或?qū)⒈黄染喺J(rèn)證評估流程。


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