《電子技術(shù)應用》
您所在的位置:首頁 > EDA與制造 > 業(yè)界動態(tài) > 晶飛半導體成功實現(xiàn)12英寸碳化硅晶圓剝離

晶飛半導體成功實現(xiàn)12英寸碳化硅晶圓剝離

2025-09-10
來源:IT之家

9 月 9 日消息,中國科學院半導體研究所科技成果轉(zhuǎn)化企業(yè)北京晶飛半導體科技有限公司昨日宣布近期成功利用自主研發(fā)的激光剝離設備實現(xiàn)了 12 英寸 (300mm) 碳化硅 (SiC) 晶圓的剝離。

無標題.png

這一技術(shù)突破解決了大尺寸碳化硅晶圓加工的技術(shù)瓶頸,打破了國外廠商在大尺寸碳化硅加工設備領域的技術(shù)壟斷,有利于 12 英寸 SiC 晶圓的商業(yè)化。而面積更大的 SiC 晶圓意味著更低的晶邊損失和更大規(guī)模的一次處理能力,單位芯片成本能較 6 英寸晶圓降低 30%~40%。


Magazine.Subscription.jpg

本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。