EDA與制造相關(guān)文章 臺積電宣布其7納米制程進入量產(chǎn) 并透露了5納米節(jié)點的首個時間表 持續(xù)同時朝多面向快速進展的晶圓代工大廠臺積電（TSMC），于美國硅谷舉行的年度技術(shù)研討會上宣布其7納米制程進入量產(chǎn)，并將有一個采用極紫外光微影（EUV）的版本于明年初量產(chǎn)；此物該公司也透露了5納米節(jié)點的首個時間表，以及數(shù)種新的封裝技術(shù)選項。 發(fā)表于：11/1/2018 臺積電5nm節(jié)點投資250億美元，而3nm工藝也確定了 在下一代制程工藝上，有實力有財力走得更遠的半導(dǎo)體公司沒幾家了，聯(lián)電已經(jīng)放棄了12nm以下的先進工藝， 英特爾 還掙扎在10nm節(jié)點，目前公布5nm及3nm計劃的只有臺積電和 三星 兩家，其中臺積電5nm節(jié)點投資250億美元，而3nm工藝也確定了投資計劃了，投資規(guī)模6000億新臺幣，目前臺南園區(qū)的3nm工廠已經(jīng)通過了環(huán)評初審，預(yù)計最快2022年底投產(chǎn)。 發(fā)表于：11/1/2018 臺積電5nm工藝2020年量產(chǎn) 開發(fā)成本更高 在臺積電原來的計劃中，5nm工藝最早會在2020年開始量產(chǎn)，但隨著7nm工藝的產(chǎn)品獲得華為麒麟980、蘋果A12、高通驍龍8150等芯片的大規(guī)模量產(chǎn)，臺積電已經(jīng)迫不及待的將5nm工藝提前一年。作為對比，英特爾的10nm工藝最早計劃在2016年面世，早前的傳言中，英特爾的10nm工藝要到2020年可能順利量產(chǎn)，但英特爾最近突然宣布10nm工藝解決了良率問題，對于臺積電等廠商來說都不是好消息。 發(fā)表于：11/1/2018 三星宣布5nm、4nm、3nm工藝！全新晶體管架構(gòu) 這兩年，三星電子、臺積電在半導(dǎo)體工藝上一路狂奔，雖然有技術(shù)之爭但把曾經(jīng)的領(lǐng)導(dǎo)者Intel遠遠甩在身后已經(jīng)是不爭的事實。 發(fā)表于：11/1/2018 EUV微影技術(shù)7nm制程正在接近 5nm制程還比較遙遠 EUV被認為是推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)制造更小芯片的重要里程碑，但是根據(jù)目前的EUV微影技術(shù)發(fā)展進程來看，10奈米（nm）和7nm制程節(jié)點已經(jīng)準備就緒，就是5nm仍存在很大的挑戰(zhàn)。 發(fā)表于：11/1/2018 7nm、5nm的技術(shù)研發(fā)將讓芯片成本超2億美元 Q3臨近，各家公司的財報也是悲喜兩重天，而全球最大的光刻機公司荷蘭ASML公司保持開掛態(tài)勢，當季營收27.8億歐元，凈利潤6.8億歐元，同比增長13.4%，出貨了5臺EUV光刻機。據(jù)悉，ASML預(yù)計全年出貨18臺，明年將增長到30臺，為何光刻機的生意如此“紅火”？ 發(fā)表于：11/1/2018 5nm技術(shù)指日可待 EUV技術(shù)有重磅突破 全球一號代工廠臺積電宣布了有關(guān)極紫外光刻(EUV)技術(shù)的兩項重磅突破，一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶芯片的流片工作，二是5nm工藝將在2019年4月開始試產(chǎn)。今年4月開始，臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產(chǎn)，蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或?qū)褂盟圃?，但仍在使用傳統(tǒng)的深紫外光刻(DUV)技術(shù)。 發(fā)表于：11/1/2018 英特爾、三星、臺積電納米制程進展如何？ 而競爭對手三星和臺積電，在14/16nm節(jié)點之后好像開掛一樣，10nm工藝都已經(jīng)量產(chǎn)商用，其中臺積電拿下了華為麒麟970、蘋果A11，三星則搞定了高通驍龍845。最近也相繼曝光7nm工藝研制成功。但英特爾的10nm工藝才剛剛落地，差距有點大了！ 發(fā)表于：11/1/2018 分析師：英特爾最少落后臺積電5年，可能永遠追不上了 9月28日下午消息，據(jù)中國臺灣地區(qū)媒體報道，羅森布拉特（Rosenblatt Securities）證券公司的分析師Mosesmann在8月底的一份報告中表示，處理器大廠英特爾（Intel）在半導(dǎo)體制程上的瓶頸不只是10納米節(jié)點的延期，而且需要許多時間來解決這個問題，因為這將造成英特爾制程劣勢持續(xù)5年、6年、甚至7年時間。 發(fā)表于：11/1/2018 三星臺積電制程工藝已領(lǐng)先Intel？真相并非如此！ 以前一扯到CPU關(guān)于新制程進程方面的東西，一些大佬就要開始提摩爾定律，作為Intel創(chuàng)始人之一戈登·摩爾提出的這項理論，Intel無疑是目前最為堅定的捍衛(wèi)者之一，不過隨著現(xiàn)目前臺積電和三星方面在工藝節(jié)點方面的全面超越已經(jīng)開始量產(chǎn)10nm和即將試產(chǎn)的7nm工藝，在進度方面那可是比Intel方面快多了，很多朋友到現(xiàn)在也沒有想清楚具體原因，今兒個小獅子就來跟大家聊這個話題。 發(fā)表于：11/1/2018 納米制程進度如何？英特爾/三星/臺積電/中芯國際都做了哪些努力 芯師爺說：納米制程是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的核心技術(shù)，最近英特爾擴建10nm工廠，三星14億買10臺光刻機，開動7nm工廠，其6nm也正在計劃中，今年初，臺積電5nm已經(jīng)動土，大陸半導(dǎo)體制造和先進地區(qū)還存在一定差距，在大基金和地方政府的支持下，中芯國際等半導(dǎo)體制造企業(yè)一直在努力突破。 發(fā)表于：11/1/2018 三星力不從心，Intel落后5年！臺積電明年4月試產(chǎn)5nm EUV制程工藝 臺積電方面日前表示7nm制程的芯片已開始量產(chǎn)，同時5nm制程將會在2019年年底或2020年年初投入量產(chǎn)。顯然這對于三星來說不是個好消息，眾所周知臺積電在7nm制程工藝節(jié)點上非常成功，不僅與眾多廠商有合作目前還獨家為蘋果供應(yīng)A系列芯片。 發(fā)表于：11/1/2018 三大半導(dǎo)體代工廠PK，三星、英特爾、臺積電的晶體管之爭誰勝出？ 由于晶體管制造的復(fù)雜性，每代晶體管制程針對不同用途的制造技術(shù)版本，不同廠商的代次間統(tǒng)計算法也完全不同，單純用代次來比較并不準確。根據(jù)目前業(yè)界常用晶體管密度來衡量制程水平，英特爾最新10nm制程的晶體管密度堪比三星 EUV版本7nm制程。 發(fā)表于：11/1/2018 EUV光刻機對半導(dǎo)體制程的重要性 集成電路在制作過程中需要經(jīng)歷材料制備、掩膜、光刻、刻蝕、清洗、摻雜、機械研磨等多個工序，其中以光刻工序最為關(guān)鍵，因為它是整個集成電路產(chǎn)業(yè)制造工藝先進程度的重要指標。而光刻工序用到的設(shè)備——光刻機則是集成電路制造中最精密復(fù)雜、難度最高、價格最昂貴的設(shè)備，用于在芯片制造過程中的掩膜圖形到硅襯底圖形之間的轉(zhuǎn)移。 發(fā)表于：10/31/2018 Automechanika Shanghai為您解讀： 汽車維修與保養(yǎng)行業(yè)助力中國汽車市場未來蓬勃發(fā)展 汽車售后服務(wù)領(lǐng)域一直是Automechanika Shanghai的核心組成部分，產(chǎn)品涉及事故車維修、噴涂、檢測、養(yǎng)護及快修連鎖、用品及改裝等方面，展示規(guī)模與力度逐年上升。今年新增兩家來自于維修與保養(yǎng)行業(yè)的重磅支持單位——中國汽車保修設(shè)備行業(yè)協(xié)會（CAMEIA）和中國汽車維修行業(yè)協(xié)會（CAMRA），更迎來全新 ‘終端服務(wù)連鎖專區(qū)’，為維修終端轉(zhuǎn)型升級作準備。展會將于2018年11月28日拉開帷幕，迎接預(yù)計超過14萬名海內(nèi)外買家。 發(fā)表于：10/31/2018 ?…330331332333334335336337338339…?
