《電子技術應用》
您所在的位置:首頁 > 嵌入式技術 > 業(yè)界動態(tài) > Intel 3D XPoint閃存揭秘:20nm工藝

Intel 3D XPoint閃存揭秘:20nm工藝

2017-02-21
關鍵詞: 英特爾 存儲

Intel、美光發(fā)布3D XPoint閃存已經(jīng)一年多了,號稱性能、可靠性是NAND閃存的1000倍,容量密度是后者10倍,各種黑科技秒殺當前的閃存水平。從去年底開始有少量基于3D XPoint閃存的Optane硬盤問世,消費級容量是16/32GB,企業(yè)級有個375GB的DC P4800X系列,隨機性能確實很強大。

78722e0fa6a5fa76f5cc3a07fcb6df94.jpg

不過Intel迄今為止都沒有公布過3D XPoint閃存的技術內幕,好在現(xiàn)在可以確定一點了,那就是375GB的DC P4800X硬盤使用的是20nm工藝。

Intel當年發(fā)布3D XPoint閃存之后并沒有透露該技術的細節(jié),只說它是不同于NAND閃存的新型存儲技術,性能、可靠性及密度全面領先當前NAND產品。Intel不公開技術內幕大概是為了保密,業(yè)界早前也在猜測3D XPpint閃存有可能是基于PCM相變技術的,也有說是ReRAM技術的,只是這些都無法證實。

現(xiàn)在Computerbase網(wǎng)站論壇有人爆料了DC P4800X硬盤的PCN通知書,里面提到了它是基于20nm工藝的,只是Intel以往的PCN通知都是公開的,但這次需要授權用戶登錄才能看到,所以普通人也無法查閱具體細節(jié)了。

Intel使用20nm工藝制造3D XPoint閃存也不算意外,雖然在進入3D閃存之后廠商就很少公布具體的制程工藝了,大多時候只公布堆棧層數(shù),不過大部分3D閃存使用的制程工藝都不會很先進,三星早期的V-NAND閃存使用的還是40nm工藝,幾年前的制程工藝了,聽上去落后,但實際上是好事,因為提升密度可以靠對堆棧層數(shù),更“落后”的工藝往往有更好的可靠性。


本站內容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉載內容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內容無法一一聯(lián)系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。