海，2018年3月14日--應用材料公司今日發(fā)布了其市場領先的SEMVision?系列缺陷檢測和分類技術最新產品，助力尖端存儲和邏輯芯片的制造商提升生產力。最新的SEMVision G7系統(tǒng)，是目前市面上唯一具有高分辨率缺陷成像，以及經(jīng)生產驗證、具有先進機器學習智能的DR-SEM*系統(tǒng)。它有助于芯片制造商更快對缺陷進行分類，找出根本原因并解決良率問題。

　　“由于將日趨復雜的新設計投入生產的難度越來越大，芯片制造商正在尋找加快產品面市和實現(xiàn)最優(yōu)良率的方法。”應用材料公司副總裁兼工藝診斷及控制事業(yè)部總經(jīng)理Ofer Greenberger表示，“SEMVision G7系統(tǒng)進一步拓展了成像能力，可以對關鍵缺陷進行檢測，包括在晶圓邊緣斜面和側面位置。這些地方的缺陷若未能及時發(fā)現(xiàn)，可能會導致芯片的良率下降。利用全新機器學習算法進行實時自動分類和缺陷分析，可以確保精準和一致的工藝控制，加速提升芯片制造商實現(xiàn)穩(wěn)定的生產工藝?！?/p>

　　除了獨特的晶圓邊緣斜面和側面位置的成像能力之外，SEMVision G7還改進了無圖案晶圓的光源和收集系統(tǒng)，實現(xiàn)了18納米缺陷的光學檢測。無圖案晶圓上的缺陷識別和表征，為芯片制造商提供了表面形貌和材料等信息，可以幫助確定缺陷的來源并用更快的時間進行糾正。

　　Purity? II技術，是業(yè)內唯一經(jīng)全面生產驗證的Purity? ADC的技術。此項技術拓展了SEMVision G7系統(tǒng)的機器學習能力，使它能夠學習工藝變更情況，并在運行過程中調整自動統(tǒng)計分類引擎。全新的機器學習能力將工程設計數(shù)據(jù)與SEM圖像結合起來，能產生基于位置的缺陷分類，實現(xiàn)更準確的環(huán)境情況輸入，且加速根本原因的分析。全新的缺陷提取算法，能夠優(yōu)先分揀出在分類引擎中預定義的缺陷，確保至關重要的缺陷能夠先被突出與顯示出來。通過使用機器智能學習實現(xiàn)快速準確的自動缺陷檢測和根本原因分析，Purity II ADC能夠加快工藝提升并實現(xiàn)卓越的良率管理。

　　關于應用材料公司

　　應用材料公司（納斯達克：AMAT）是材料工程解決方案的領導者，全球幾乎每一個新生產的芯片和先進顯示器的背后都有應用材料公司的身影。憑借在規(guī)模生產的條件下可以在原子級層面改變材料的技術，我們助力客戶實現(xiàn)可能。應用材料公司堅信，我們的創(chuàng)新必能驅動先進科技成就未來。欲知詳情，請訪問www.appliedmaterials.com